溅镀真空泵,溅镀真空泵抽真空时间

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正二十世纪的前50年,世界各国科技人员经过大量的 试验研究基本建立了溅射理论。在二十世纪的后 50年里,薄膜技术获得了腾飞,这主要得益于真空技 术在镀膜方面的应用,使真空镀膜实现了产业化。由 于有了理论基础和成熟的工艺,各种镀膜设备也不断 推陈出新。其中Leybold公司较早的开发出各种镀膜设 备,也包括用于光盘生产的真空溅镀机。之后,广泛 用于光盘的溅镀机还有德国Balzers和Singulus公司的 溅镀机。通过认真理解光盘的溅镀过程,并结合设备供应商提供的维护保养规范,可以使光盘生产人员更好更合理地使用溅镀机。首先使溅镀仓的真空度达到规范值,如果真空度不能达到要求,应该依次检查密封、真空探头(感应器)、预真空泵、分子泵的工作状态。由于光盘复制生产是自动连续进行,生产线中大量使用了传感器和电子控制,判断故障时,应该首先检查传感器和控制系统,然后再检查机械装置,这样做的好处是处理故障先易后难,也可以避免大动作处理小故障,从而提高故障处理效率。如果溅镀仓的真空度可以达到规范值,但是无法溅镀或者溅镀效果达不到要求,应该考虑电场、磁场或环境条件(如:氩气、冷却水)的原因。全属靶材、MASK、磁铁的老化都可能是无法溅镀和溅镀质量不佳的直接原因,氩气的不足和过量都会影响溅镀。特别注意的是在更换金属靶材后,由于靶材不良、安装不当或者保养不到位,常常会出现不能产生电场而无法溅镀的情况。另外,溅镀机的冷却水也是非常重要的外部条件,它将影响溅镀源,没冷却水,冷却水流量计错误以及电磁阀故障部将导致无法溅镀,因为溅镀机有自身保护的设置。

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真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

原理是将扩散泵油加热至沸腾,气化的油雾通过喷油嘴向四周喷射,扩散泵的四周有冷却水管或者水套,将喷射的油雾冷却液化流下至泵的底部循环。如果上半部分热的话说明冷却不好,会向真空室返油,那就是不正常的现象了,说明冷却不好,原因可能是水压不够或者水管内有阻塞。

扩展资料:

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。

对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。

在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。

溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。

参考资料来源:百度百科--真空镀膜机。

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1、系统泄露;

2、真空泵换油

3、真空室热泄露

4、机械泵抽到50PA,也是很差的了,应该在10一下,

成都超迈机械提供咨询!希望对你有所帮助!

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真空连续镀膜机可以做到的。溅镀 (Sputtering) 技术之开发,将各种靶材溅镀至塑胶、ABS及其他被镀物上,使其外观改变为类金属,或增强其他功能。现因溅镀制程无环保问题,又在欧盟推动有毒物质限用指令(Rohs)下,更是取代传统电解、电镀一大利器。

产品的运用:

运用连续式真空镀膜方法成为近代薄膜合成方式的主流,主要是在各种不同的基材表面以真空溅镀的方式制作各种功能性薄膜,不仅具有低成本、速度快的优点,相较于传统的水电镀技术,真空镀膜技术更具有环保、可回收等特性;其应用范围包括抗电磁波干扰镀膜处理EMI 、Shielding、外观镀膜、感温棒表面处理、触控面板薄膜处理、导光板镀膜处理、 ITO 导电玻璃薄膜处理、金属反射膜、光学镜片镀膜、塑胶材料镀膜线路板、软性 PCB前段制程、液晶显示器镀膜处理、OLED 镀膜处理、PLED镀膜处理、微机光电材料及奈米材料等,其用途极为广泛。

本公司由单腔体式的真空设备作连结,依各不同领域的客户需求,由单腔体式真空设备连结成三腔式、五腔式、八腔式、甚至于十一腔式及十三腔式的超大型连续式高真空溅镀设备系统单腔体式之系统可用于学术研究,若结合相关周边设备如:底漆涂装、喷砂、自动化机械手臂、超音波洗净机等,可形成一连贯的全自动生产线。

应用产业:

.手机业 - 手机机壳、按键、屏幕、EMI... 。

.通讯产业 - EMI、装饰... 。

.印刷电路板 - BGA、软性基板、PCB... 。

.制鞋业 - Clean、装饰... 。

.被动元件 -晶片电阻...

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PVD的全称是物理气象沉积,即英文(Phisical Vapor Deposition)的简写形式。

目前PVD主要有蒸发镀膜,磁控溅射镀膜,多弧离子镀膜,化学气相沉积等形式。

PVD总的来说属于绿色环保产业,和其他行业相比,对人体有害很小,但不是没有。当然,也完全可以有效减少,甚至完全消除。

1)噪音污染:如特别是一些大的镀膜设备,机械真空泵噪音很大,可以把泵隔离在墙外;

2)光污染:离子镀膜过程中,气体电离发出强光,不宜透过观察窗久看;

3)金属污染:镀膜材料有些(如铬、铟、铝)是对人体有害的,特别要注意真空室清理过程中出现的粉尘污染;

4)辐射:有些镀膜要用到射频电源,如功率大,需做好屏蔽处理。另外,欧洲标准在单室镀膜机门框四周嵌装金属线屏蔽辐射。

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1。真空镀膜对人的危害很小的。

2。电磁辐射很小。

3。真空泵排气要直接到室外。

4。镀膜结束后,打开真空室时,可能会有大量灰尘,注意别吸到呼吸道中。

5。不要长时间观察等离子体束,可能对眼睛有伤害。

6。如果需要加热,注意别烫到。

7。注意工艺气体不要泄露。

应该是真空溅镀,不是电镀。这种镀膜方式危害很小,对人体危害最大的就是打开真空室时产生的灰尘。

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原理和工艺不同,电镀是基于电化学反应原理,在含有需镀金属离子的溶液中通以直流电,使该金属离子在阴极(工件)获得电子变成金属,沉积在镀件上,即为镀层,真空镀是基于物理气相沉积原理,使需镀金属或氧化物或合金在高真空下高温气化,沉积在镀件上;设备不同,电镀主要设备是直流电源、镀槽等,真空镀主要设备真空镀膜机(包括真空室、真空泵等);所用原材料不同,电镀主要原材料为各种化工材料和金属材料,真空镀主要原材料为金属、金属化合物及合金;适用范围和用途不同,电镀可以在几乎所有金属和非金属上进行,主要用于金属防护、装饰和导电、耐磨等功能性电镀,真空镀加工对象有限制,例如不能直接在钢铁件上镀,真空镀膜很薄,不像电镀那样厚,但可以镀得电镀做不到的镀层,如金黄色的氮化钛、铝等等,用于耐蚀、耐磨、装饰等场合,真空镀由于受真空室大小的限制,不能镀大型零件,相比之下,电镀受此限制小得多;在环保方面,真空镀比电镀污染小的多。

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真空系统。是由真空泵、PLC程序控制系统、储气罐、真空管道、真空阀门、境外过滤总成等组成的成套真空系统。目前,该系统广泛应用于电子半导体业、光电背光模组、机械加工等行业。

该真空系统出厂时已经包括了抽速控制、进气过滤、主要运行数据显示、运行保护及远程控制接口等。只需要在现场进行简单的连接电源和管道,即可以组成一个完整的真空系统。该真空系统的控制系统由先进的PLC控制系统经过编程后组成,以触摸屏为人机界面,实现对真空系统、工件行走、磁控靶、工艺设定和执行、报警保护系统等的全自动化控制。

特点

真空系统自启动后,全部运行过程可以实现全自动控制。在工作中,真空系统 内各处的真空度(即真空稀薄程度平均分布)始终在其允许范围内上下波动,其波动范围可根据用户要求进行调整。使用螺杆真空泵、罗茨真空泵、旋片真空泵及水环真空泵真空系统能达到最佳流程工艺。

第一台真空泵启动后达不到设定所需真空时第二台真空泵启动至达到设定的真空值。当达到所需设定值后第一台真空泵停止接着第二台真空泵停止循环工作。我司的真空系统可在无人操作情况下对系统进行自动控制,在停电时可自动封闭真空系统。同时控制箱可以保护真空泵马达过载及短路。

工作原理

启动系统,主真空泵组开始工作,直到真空罐内真空度达到设定的上限值,真空泵自动停止运行,中央真空系统内的真空由管路上的真空止回阀自动截止而得到维持。如因工作需求真空罐内真空度下降并低于设定的下限值时,备用真空泵组自动启动。由此循环往复,真空系统的真空度能够维持稳定的真空源,满足生产的要求。

应用行业

应用行业:电工、纺织、CNC雕刻机、真空成型机、折页机、爆光机、计算机、半导体运用、线路板、电池、电容、装订机、照相制版机、冷冻空调制程真空、包装机、变压器、光学镜片、自动注型、聚氨脂工艺、标签粘贴机、晒版机、线路板机真空升降机、真空吸盘、印刷机、VCD&DVD光盘表面真空溅镀、工业炉、冶炼和热处理、金属真空镀膜、真空焊接、电子束焊等、真空镀膜、真空干焊、真空包装工业、空间模拟、科研领域、医院负压系统、环保工业、电子工业、实验室、塑胶工业、一般机机械、玻璃、大理石、金属大型重物真空搬运等工业。

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一、磁控溅射膜

1、磁控溅射隔热膜又称磁控溅射金属膜,采用多层磁控溅射工艺打造而成,以持久反射隔热的出色性能而著称。由于其高清晰、高隔热、高稳定、低内反光、色泽纯正、永不退色、使用寿命长等众多特点,一度被广泛用于汽车玻璃贴膜、建筑玻璃贴膜。

2、磁控溅射技术在薄膜制造领域中的应用十分广泛,可以制造工业上所需要的各种薄膜。如:超硬薄膜、耐腐蚀耐摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜、隔热膜以及各种具有特殊电学性能的薄膜等。

3、简单的说,磁控溅射隔热的生产工艺就是在真空的环境里采用电离子有序轰击镍、银、钛、金、铟、铜、铝等贵金属耙材,并采用磁场控制的方式让金属离子均匀的溅射到光学级的PET基材上,沉积成金属镀膜层。

4、隔热原理:磁控溅射隔热膜属于反射型隔热膜。它是将镍、银等金属的分子通过溅射的方法涂布在安全基层上,这些金属层会选择性的将阳光中的各种热能源,包括红外线、紫外线及可见光热能反射回去。从而有效祈祷隔热及保护人体及汽车内饰免受紫外线伤害的作用。

二、金属膜是采用磁控溅射技术的。

三、一般来说,利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点:

(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。

(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。

(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体,可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。

(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制,容易得到高精度的膜厚。

(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。

(6)溅射粒子几不受重力影响,靶材与基板位置可自由安排。

(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上,且由于溅射粒子带有高能量,在成膜面会继续表面扩散而得到硬且致密的薄膜,同时此高能量使基板只要较低的温度即可得到结晶膜。

(8)薄膜形成初期成核密度高,可生产10nm以下的极薄连续膜。

(9)靶材的寿命长,可长时间自动化连续生产。

(10)靶材可制作成各种形状,配合机台的特殊设计做更好的控制及最有效率的生产。

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